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光學(xué)薄膜的應(yīng)用領(lǐng)域及分類
光學(xué)薄膜是利用薄膜對光的作用而工作的一種功能薄膜,光學(xué)薄膜在改變光強方面可以實現(xiàn)分光透射、分光反射、分光吸收以及光的減反、增反、分束、高通、低通、窄帶濾波等功能。光學(xué)薄膜的種類有很多,這些薄膜賦予光學(xué)元件各種使用性能,在實現(xiàn)光學(xué)儀器的功能和影響光學(xué)儀器的質(zhì)量方面起著重要的或者決定性的作用。
傳統(tǒng)的光學(xué)薄膜是現(xiàn)代光學(xué)儀器和各種光學(xué)器件的重要組成部分,通過在各種光學(xué)材料的表面鍍制一層或多層薄膜,利用光的干涉效應(yīng)來改變透射光或反射光的光強、偏振狀態(tài)和相位變化。薄膜可以被鍍制在光學(xué)玻璃、塑料、光纖、晶體等各種材料表面上。它的厚度可從幾個nm到幾十、上百個μm。光學(xué)薄膜可以得到很好的牢固性、光學(xué)穩(wěn)定性,成本又比較低,幾乎不增加材料的體積和重量,因此是改變系統(tǒng)光學(xué)參數(shù)的首選方法,甚至可以說沒有光學(xué)薄膜就沒有現(xiàn)代的光學(xué)儀器和各種光學(xué)器件。在兩百多年的發(fā)展過程中,光學(xué)薄膜形成了一套完整的光學(xué)理論—薄膜光學(xué)。光學(xué)薄膜已廣泛應(yīng)用于各種光學(xué)器件(如激光諧振腔、干涉濾波片、光學(xué)鏡頭等),不僅如此它在光電領(lǐng)域中的重要作用亦逐漸為人們所認識。
1、分光膜
把一束光分為兩部分的器件稱為分光鏡。分光鏡的工作部分一般是一個鍍過膜的平面,它在一定的波長范圍內(nèi)具有特定的反射率和透射率。通常這個平面是傾斜的,因此入射光和反射光便分離開來。分光鏡的預(yù)定反射率和透射率值隨其用途不同而相異。
對于不同的分光鏡往往有不同的透射率和反射率比T/R,即分光比。最常用的是中性分光鏡,T/R=50/50,它把一束光分成光譜成分相同的兩束光。因為它在某波長區(qū)域內(nèi)對各波長具有相同的透射率和反射率比,因而反射光和透射光不帶有顏色,呈中性。常用的中性分光鏡有兩種結(jié)構(gòu):一種是在透明的平板基片上鍍上分光膜,另一種是把膜層鍍在兩個直角棱鏡上,再膜面對膜面地膠合成立方體。常用的有金屬分光鏡和介質(zhì)分光鏡兩類。金屬膜分光鏡分光的光譜寬度較寬,缺點是吸收損失較大,分光效率較低,介質(zhì)分光鏡的特點是分光效率高,偏振效應(yīng)明顯,分光特性色散明顯。介質(zhì)膜分光鏡與金屬膜分光鏡相比,因為介質(zhì)膜的吸收小到可以忽略的程度,所以分光效率高,這是介質(zhì)分光鏡的優(yōu)點,但是介質(zhì)膜的特性對波長較敏感,給中性分光帶來困難。同時,一般介質(zhì)膜分光鏡的偏振效應(yīng)較大,這也是它的不足之處。
2、增透膜(也叫減反射膜,或者AR膜)
假定光線垂直入射在表面上,這時表面的反射光強度與入射光的強度比值(反射率)只決定于相鄰介質(zhì)的折射率的比值。
折射率為1.52的冕牌玻璃每個表面的反射約為4.2%左右.折射率較高的火石玻璃則表面反射更為顯著。這種表面反射造成了兩個嚴重的后果:光能量損失使象的亮度降低;表面反射光經(jīng)過多次反射或漫射,有一部分成為雜散光,最后也到達象平面使象的襯度降低圖象質(zhì)量,特別是電視、電影攝影鏡頭等復(fù)雜系統(tǒng)都包含了很多個與空氣相鄰的表面,如不鍍上增透膜其性能就會大大降低。
應(yīng)用于可見光譜區(qū)的光學(xué)儀器非常多,就其產(chǎn)量來說占據(jù)了減反射膜的絕大部分,幾乎在所有的光學(xué)器件上都要進行減反處理。
3、干涉截止濾光膜
要求某一波長范圍的光束高透射,而偏離這一波長的光束驟然變化為高反射(或稱抑制)的干涉截止濾光片有著廣泛的應(yīng)用。我們把抑制短波區(qū)、透射長波區(qū)的濾光片稱為長波通濾光片。相反,抑制長波區(qū)、透射短波區(qū)的截止濾光片就稱為短波通濾光片。大多數(shù)情況下,是希望截止短于某一特定波長,或者長于該波長的所有光線。通常的辦法是使干涉濾光片同吸收濾光片相組合。它既可以用作截止長波的短波通濾光片,也可以用作截止短波的長波通濾光片。只要改變監(jiān)控膜層厚度的波長,截止限的位置可以隨意移動。
4、反射膜
反射膜是用于把入射光能量大部分或幾乎全部反射的光學(xué)元件。在有些光學(xué)系統(tǒng)中,要求光學(xué)元件具有較高的反射本領(lǐng),例如,激光器的反射鏡要求對某種頻率的單色光的反射率在90%以上。為了增強反射能量,常在玻璃表面鍍一層高反射率的透明薄膜,利用其上下表面反射光的光程差滿足干涉相長的條件,使反射光增強。金屬膜有很高的反射率,吸收率也較高,而介質(zhì)膜的不但反射率可以較高,還有較小的吸收率。鋁是唯一從紫外到紅外(0.2~30μm)具有很高反射率的材料。大約在波長0.85μm處反射率出現(xiàn)一極小值,其值為86%。鋁膜對基板的附著力比較強、機械強度和化學(xué)穩(wěn)定性也比較好,所以廣泛用作反射膜。新沉積的鋁膜暴露于常溫大氣后,表面立即形成一層非晶的高透明的Al2O3膜,短時間內(nèi)氧化物迅速生長到15~20.,然后緩慢生長,一個月后達到50左右。對緩慢蒸發(fā)的鋁膜,氧化物的厚度可以達到90.以上。氧化物的存在使鋁膜的反射率下降,特別是波長小于200nm的區(qū)域,為此要用MgF2膜作保護層。在可見光區(qū),通常用SiO作為初始材料,蒸發(fā)得到硅的氧化物薄膜作為Al膜的保護膜。最佳的制備鋁膜的條件:高純鋁(99.99%);高真空中快速蒸發(fā)(50~100nm/s);基板溫度低于50℃。
在可見光及紅外波段內(nèi),銀膜的反射率是所有已知材料中最高的。在可見光區(qū)和紅外區(qū),反射率分別達到95%和99%左右。但是,銀膜的附著力差,機械強度和化學(xué)穩(wěn)定性差,所以主要用于短期使用的零件。銀膜在紫外區(qū)的反射率很低,在波長400nm開始下降,到320nm附近降到4%左右。當(dāng)銀膜暴露于空氣中時反射率會逐漸降低,主要原因是表面形成的氧化銀(AgO、Ag2O3)和硫化銀,因此要在銀膜上鍍保護膜。最佳的制備工藝與鋁的相似,即高真空、快速蒸發(fā)、低的基板溫度
降低薄膜反射率的一個重要因素是散射。造成散射損耗的原因是多種多樣的,薄膜的成核和生長機理引起膜層微觀結(jié)構(gòu)的不均勻,從而會產(chǎn)生散射,借助于電子顯微鏡觀察多層膜斷面的微觀結(jié)構(gòu),其呈現(xiàn)非常明顯的柱狀,膜層內(nèi)部充滿空隙,而面變得凹凸不平。此外,基片表面的粗糙度及其缺陷,還有蒸發(fā)源噴濺的粒子、膜層中的微塵、裂紋和針孔等因素相互交叉構(gòu)成復(fù)雜的散射模型。總的來說我們可以把散射歸結(jié)為二類,即體積散射和表面散射。
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